半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
項目原型
该单位专业技术研发半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,废液氟酸度不高且化学成分复杂的。已有治疗工学院艺效果好不不稳,氟化物摆放时不时超出标准。新项目投入2300万元构建正规治疗油烟净化器,设置治疗意识500吨/天。
废水处理工艺有效成分及来源地
生產废水重点来自于生產机 难以清理和废水干洗:
氟阴离子浓硫酸浓度:1500-3500mg/L
含氢氧化钠根亚铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含氢化物发生器钨、钼等重金属事物
补救方法方法
应对高氧浓度显著特点,利用"结合+多用滤渣+膜补救"新工艺:
焦化生活污水处理池:类别处理有差异氧化还原电位焦化生活污水
结合表现池:分第一阶段加药系统氢硫化钠和氢硫化钙,掌控最中pH至7.5-8.
二沉池反應池:加药系统PAC和PAM提高析出治疗效果
斜管悠长岁月中池:有效固液破乳
多物料吸附器:快速清理微小科粒
反进行渗透系统性:纵深脱盐和除氟
活性活性污泥浓缩液缺水系统的:抽滤缺水后活性活性污泥运输专业的预防
免费在线污染监测体统:实时随时监控随时监控氟铁离子酸度和pH值
从而郊果
整理操作系统自动运行统计资料:
入水氟亚铁离子总值氧浓度:2800mg/L
出液氟阴离子渗透压:3.2mg/L(平均水平)
氟清掉率:99.9%上文
水中水回用率:完成65%
模式重新化层面高,做到污废水 清理资金缩减30%,年收旧氟化钙副护肤品约400吨。