半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
产品经验
该机构的为中国一流的光电器件公测机构的,座落在珠半圆中南部,大部分进行中高档电源芯片的划区和装封公测。鉴于本县环境保护耍求从紧,机构的来决定制定废渣零尾气排放楼盘。楼盘于2026年启动时,2026年6月起建开工,操作面积为200吨/日,总投资者约2000百万元。
废气部分及主要来源
该类需求片区电镀废水有这优势特点:
高氧化还原电位氟化物,主耍根据晶圆水刀切割后的拆洗程序,氟铁离子氧化还原电位独角兽高达150-200mg/L
包含的奈米级硅粉颗粒肥料,孔径多在100-500nm间
有机肥料加热器端差较高,COD在500-800mg/L
具有氢化物发生器天价属如铅、镉等
电阻率高,常常在2000-3000μS/cm
加工处理技艺程序
为实行零尾气排放工作目标,工艺设备开发着重点遵循废渣分类管理汇集和资源共享收废:
电镀废水划分类别采集而来操作系统
:将含氟废污水与某个废污水离婚搜集
无机化学沉积除氟
:适用有级钙盐凝固法,互相配合提高效率凝固池
初中级氧化反应加工处理
:臭氧老化离子液体空气氧化溶解难补救有机化学物
膜浸提系統
:用DTRO碟管式反固化,萃取度数为10倍
汽化凝结
:MVR设备水蒸汽再进行压缩蒸发掉器处里浓水
缺水设计
:将凝结盐干后是行业副的产品外售
除理疗效
控制系统进行统计数据体现 :
氟化物清除率>99.9%,满水后氟铝离子<1mg/L
COD总祛除率>98%,有水出COD<20mg/L
水信息利用率>95%,仅诞生少量的成果盐
年均可收购是投资者们高品质保证工业废水处理水约10万吨
晶体盐含量达成工业企业级规定,控制自然污泥处置运用
的项目往往体现了废渣临“0”排放出,还经由资源性收集带来了约80万是/年的更多收益的。