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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

业务图片背景 该半导体设备种植加工小区座落华东的地区的地区,总投资费用多于200亿美金,主要是种植124英寸晶圆和先进集体装封的产品。小区日释放废储水量约5000吨,包括许多种工艺流程废气,清理难易度大。内容特殊要求废气清理后起到《电子元器件工业化水水环境有害特性释放标准规定》(GB 39731-2020)有点释放卫生防护距离,要素回收利用率不少于60%。 生活污水成份及来原 含氟废气:主要来自于晶圆蚀刻、擦洗流程,氟化合物酸度将高达200-500mg/L,pH值冲击大 无机废水处理:光刻、显影液、去胶等工艺技术制造,COD氧浓度300-800mg/L,有效异丙醇、二甲苯等无机溶液 含铜废液:生物学镍、生物学机械性抛光剂(CMP)工艺技术行成,铜化合物溶液浓度50-150mg/L 酸碱性有机废气:设备家电清洗、有机废气清洗等方面带来,pH值在2-12之間跌涨 研磨设备生活污水:CMP加工过程所产生,有纳米级级二阳极氧化硅颗粒肥料 处置生产技术步奏 选用"几大类采集而来+分质加工处理+强度活性炭过滤"的乐队组合工艺设备: 含氟废污水除理线 : 两极电化学积累:先添加氯化钙的调节pH至6-7,另加入PAC和PAM二沉池积累 可溶性腐蚀铝溶解:为了确保氟铁离子渗透压降为5mg/L下面 淤泥经板框压滤后委托人非常专业处治 有机质废水外理外理线 : 微钛电极法预净化处理:铁碳微钛电极法挥发大氧分子有机的物 UASB好氧池作用器:HRT=24h,COD删去率>60% MBR膜菌物影响器:按照PVDF弧形人造纤维膜,通量15LMH 含铜生产废水除理线 : 电学乳浊液:添加NaOH调pH至9-10,达成Cu(OH)2乳浊液 阴铁离子置换:两极光敏树脂置换确定铜阴铁离子<0.3mg/L 钛电极的回收利用利用:部位电镀废水经钛电极的回收利用利用彩石铜 融合解决系统软件 : 调池:教育均衡发展水质标准供水量,设水解酸化搅匀 沥青混凝土结晶:污泥脱水复合型斜板沉淀池剂彻底清除溶液有害物质 什么是臭氧催化阳极氧化阳极氧化:化学化学降解难化学化学降解有机的物 反浸入体系:脱盐率>98%,产水中水回用于生产方式线 污泥干化净化处理装置 : 飞灰精浓池:粉状质量浓度从1%完善至3% 抽滤脱水现象:申请加入PAM厨卫,泥饼含水分率<75% 高低温干化:个部分飞灰干化至含水量率30%有以下 决定性成果 品牌建设运动后,哪项目标维持合格:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜化合物<0.3mg/L、pH 6-9。回收水环境质量到达GB/T 19923-2005工业生产冲水条件,回收率65%,次年节电鲜美水含量约1二十万吨。污泥干化生产量以减少40%,有风险性有害垃圾治理成本价降35%。系统的电脑智能工业程度上高,手机在线监测网统计数据与环保健康行业随时联机。

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